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设备型号:Zeiss Auriga Compact
聚焦离子束(FIB)与扫描电子显微镜(SEM)耦合成为FIB-SEM双束系统后,通过结合相应的气体沉积装置,纳米操纵仪,各种探测器及可控的样品台等附件成为一个集微区成像、加工、分析、操纵于一体的分析仪器。其应用范围也已经从半导体行业拓展至材料科学、生命科学和地质学等众多领域。为方便客户对材料进行深入的失效分析及研究,金鉴实验室现推出Dual Beam FIB-SEM业务,并介绍Dual Beam FIB-SEM在材料科学领域的一些典型应用,包括透射电镜( TEM)样品制备,材料微观截面截取与观察、样品微观刻蚀与沉积以及材料三维成像及分析等。
金鉴实验室蔡司FIB-SEM技术参数:
FIB设备型号:Fei Helios Nanolab 450S
用FIB切割样品,然后用SEM对缺陷进行定位和成像。
使用FIB可以切一样品薄片厚度(30-50nm),取出以后,然后用带有EDS/EELS探测器的TEM/STEM对其成像同时测量其化学性质。
Helios NanoLab 450S是高通量、高分辨率STEM制样、成像和分析的理想选择。
其独有的可翻转样品台和原位STEM探测器可以在几秒钟内从制样模式翻转到样品成像模式,且无需破真空或将样品暴露在环境中。
金鉴实验室FEI FIB-SEM技术参数:
聚焦离子束技术(FIB)注意事项:
(1)样品大小5×5×1cm,当样品过大需切割取样。
(2)样品需导电,不导电样品必须能喷金增加导电性。
(3)切割深度必须小于10微米。
金鉴实验室FIB-SEM技术及应用:
1.FIB透射样品制备流程
对比与传统的电解双喷,离子减薄方式制备TEM样品,FIB可实现快速定点制样,获得高质量TEM样品。
最终减薄TEM样品结果:
2.材料微观截面截取与观察
SEM仅能观察材料表面信息,聚焦离子束的加入可以对材料纵向加工观察材料内部形貌,通过对膜层内部厚度监控以及对缺陷失效分析改善产品工艺,从根部解决产品失效问题。
(1)FIB切割键合线
利用FIB对键合线进行截面制样,不仅可以观察到截面晶格形貌,还可掌控镀层结构与厚度。
(2)FIB切割芯片金道
金鉴实验室FIB-SEM产品工艺异常或调整后通过FIB获取膜层剖面对各膜层检查以及厚度的测量检测工艺稳定性。
(3)FIB切割支架镀层
利用FIB切割支架镀层,避免了传统切片模式导致的金属延展、碎屑填充、厚度偏差大的弊端,高分辨率的电镜下,镀层晶格形貌、内部缺陷一览无遗。
FIB-SEM扫描电镜下观察支架镀层截面形貌,镀层界限明显、结构及晶格形貌清晰,尺寸测量准确。此款支架在常规镀镍层上方镀铜,普通制样方法极其容易忽略此层结构,轻则造成判断失误,重则造成责任纠纷,经济损失!
FIB-SEM扫描电镜下观察支架镀层截面形貌。此款支架在镀铜层下方镀有约30纳米的镍层,在FIB-SEM下依然清晰可测!内部结构、基材或镀层的晶格、镀层缺陷清晰明了,给客户和供应商解决争论焦点,减少复测次数与支出。
(4)FIB其他领域定点、图形化切割
3. 诱导沉积材料
利用电子束或离子束将金属有机气体化合物分解,从而可在样品的特定区域进行材料沉积。本系统沉积的材料为Pt,沉积的图形有点阵,直线等,利用系统沉积金属材料的功能,可对器件威廉希尔官方网站
进行相应的修改,更改威廉希尔官方网站
功能。
4.材料的三位相貌表征
责任编辑:tzh
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