金相磨抛机如何实现结果的轻松再现

金相制样的终极目的就是制备平整镜面，用于腐蚀后观测，或者直接观测。磨抛的重要性显而易见。抛光是制样的阶段的最后一步，也是最为复杂和关键的一步。

长期以来，金相制样重经验而轻控制。磨抛效果有很强的偶然性和经验导向性，即所谓再现性低，这种低再现性就导致了金相制样的总体水平无法提高，行业从业人员的经验门槛高，进而限制的金相精细分析水平的发展。

低再现性主要原因是磨抛过程的变量太多，没有逐一量化控制，使得磨抛过程是一个黑箱工艺，处于过程失控状态。

如果要实现制样结果的再现性，就必须控制工序变量。磨抛的工序变量有：

1. 设备样品端：样品加载方式（中心/单点）；夹持器转速/转向；样品压力；夹持器与磨抛盘的偏心量……

2. 设备盘面端：转速，时长，盘面固定方式，温升控制。

3. 抛光液：抛光液类型，滴注速度，滴注位置。

4. 抛光盘：布料类型，是否钢背，是否有隔离层。

5. 工艺关联：步骤设置，清洁工艺，软启动。

简单计算大约有18个开放性变量，磨抛再现性的难度就可想而知。如果重新归纳变量的控制方法的话，大致可以从三个方面着手，设备，耗材，制样数据库。功能齐全的设备，品种丰富的耗材，数以万计的制样数据就能支撑起高再现性的重任。

材料金相分析人员的核心竞争力是通过对材料金相组织的分析，推理组织背后的材料机理，从而推动材料的开发和生产工艺的优化，而不是把大量的精力耗费在制样工序的探索上。所有的显微分析都是无数细节的累计和结晶，金相分析亦是如此。再不起眼的误差都可能为后续观测制造障碍，行业从业人员必须怀揣敬畏之心，追求尽善尽美。