TFT-LCD液晶显示器构造失效分析

　　液晶显示器的器件构造

TFT扫描电镜照片

CF

　　液晶成盒基板是由TFT基板与彩膜(CF)基板贴合在一起，并在中间填充液晶构成的。其中阵列基板和彩膜基板之间要求控制间隔为数微米，而且具有均一的间隔，并由均一的垫料(spacer)来达到这一效果。在阵列基板侧为驱动像素设计了gate线及数据线的引出电极。彩膜基板是由多个重复的RGB(红、绿、蓝)三原色构成的图形，图形形成的位置是与阵列基板上的各像素完全对应的。利用与业已成熟的LCD技术形成一个液晶盒相结合，再经过后工序如偏光片的贴覆等过程，最后形成液晶显示屏。

　　TFT基板生产工艺

　　TFT基板的生产工艺流程，玻璃素板经过反复4~5次的成膜-曝光-显影-蚀刻-检查等工序，形成等效于薄膜晶闸管的TFT基板。TFT基板上薄膜分成两种：金属膜和非金属膜。非金属膜由化学气相沉积法(CVD)生成，金属膜主要由溅射法(Sputter)生成。对应薄膜的生成，蚀刻则是把不需要的薄膜部分去除掉，金属膜蚀刻大多采用湿式蚀刻(wet etching)，非金属膜大多采用干式蚀刻(dry etching)。

　　液晶显示面板制造中TFT基板的制程工艺，并经过扫描电镜的显示、检查和分析等项目得出相关的结果。通过这些试验及其结果，提出了干式蚀刻中对产品缺陷产生的影响因素，并为提高产品的品质、降低不良率提供了一种技术参考。
 

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