6.3.4.6 C-Ψs方法∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

描述

6.3.4.6 C-Ψs方法

6.3.4 电学表征技术及其局限性

6.3 氧化及氧化硅/SiC 界面特性

第6章 碳化硅器件工艺

《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》

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