了解衍射的来源和含义

文章来源：睐芯科技LightSense

原文作者：MX

本文从来源和含义以及计算光刻方面讲了衍射的来源。

有趣的来源和含义

“衍射Diffraction”一词源于拉丁语diffringere，意思是“破碎”，指的是与物体相互作用后的波碎裂。由于传播辐射的衍射部分和非衍射部分的相干叠加，衍射现象通常表现为传播场中的强度波纹。

光刻中的衍射

相干光源（点光源）和部分相干光源（光源有一定尺寸）发射的光线透过聚光透镜后照射在掩模版上：

下面图(a) 是掩模版图形；经光照后产生的衍射图形（这是傅里叶变换）如图 (b) 所示；衍射图形经过光瞳的调制，如图(c) ，经投影透镜在晶圆表面成像（见图(d)） 。

投影光刻成像的计算过程：掩模版上线宽250nm；光刻机波长248nm， NA=0.63，σ=0，离焦＝0。

计算光刻软件包

计算光刻是依靠专用软件包来实施的，这些软件包都是由专门的供应商提供的。Mentor Graphics的Calibre软件包；ASML/Brion 的Tachyon 软件包；KLA-Tencor 的Prolith软件包等。

随着硅特征尺寸越来越小，并且必须抵消光学衍射的影响，因此需要使用光学邻近校正 （OPC） 或反向光刻技术 （ILT） 主动操纵掩模图案，以准确成像晶圆。这需要先进的计算光刻技术和更高的计算效率。每个行业都需要加速每个工作负载，这样我们才能回收电力，用更少的资源做更多的事情。

　　审核编辑：汤梓红