Wafer Fabrication[晶圆制造]
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tangwang

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GPP 玻璃钝化二极管 主要工艺 流程

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GPP主要流程
喷砂清洗后的扩散片→一次光刻→沟道腐蚀→清洗→涂玻璃粉→钝化→(电性初检)→二次光刻→镀镍(镀金)→电性检测(测片)→划片裂片
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主要设备:
光刻机、匀胶机、钝化炉、甩干机、烘箱、划片机、金相显微镜、治冷设备、图示仪
(纯水设备,空压机)
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主要工装夹具:
各工作站操作台、清洗操作柜、腐蚀操作柜、去胶操作台、涂玻璃操作柜、镀镍操作柜
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水电气配套
纯水(>10MΩ)、氧气、氮气、真空(或高压气)
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主要原物料、辅料
扩散片、显影液、定影液、剥离液、二甲苯、结合粉、结合剂、光刻胶、盐酸、硝酸、发烟硝酸、冰醋酸、镍组、(镀金水)、IPA、丙酮、玻璃粉



欢迎讨论交流,QQ:490815421

回帖(5)

何先生

2011-9-5 15:18:30
简单明了,很好,感谢。
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sntlyang

2013-5-18 19:24:48
简单明了,很好,感谢。
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刘昌明

2013-5-23 06:59:32
了解了解                  
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张世民

2014-4-6 19:16:54
过来看看  瞧瞧,学习学习
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zywplc

2015-6-19 08:46:13
谢谢分享                                                                                          
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