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光刻胶残留要怎么解决？

这是我的版图一部分，然后生成了图案是这样的：

感觉间距小的地方全都有残留，间距大的地方没有残留；

工艺参数：s9920光刻胶， evg 620‘
未进行蒸汽底漆层涂覆，前烘：100摄氏度，90s ；曝光50s，曝光后烘烤100摄氏度，90s，显影60s，水清洗，烘箱140摄氏度，30min。

这几天一直通过修改曝光时间，显影方式就是将ITO玻璃浸入到cd26中晃动容器来显影，显影时间，发现间距小于2um。
的地方大部分有光刻胶残余。
这个问题困扰了好久，请各位指点迷津，提供一些建议。我现在完全不知道怎么弄了。

回帖（13）

1156693770

2016-12-11 12:25:07

你好描述的还不够清楚曝光设备的曝光方式是怎么样的，这个很重要！
但简单来说单一的调整曝光时间是不行的要相对调整，光刻胶的厚度调整一下会有明显的效果（调整涂胶设备转速），希望能帮助你！

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ENOHK_john

2017-3-15 17:28:23

是否考虑将胶水的浓度比例调整一下让胶水稀一些或者水清洗那部分加入胶水清洗的步骤

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辣椒油

2017-3-25 00:02:03

增加显影时间，显影流量

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辣椒油

2017-3-25 00:03:28

别增加曝光量，曝光量控制线宽，只要增加显影时间，流量，水洗流量，时间

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小祥

2017-8-29 16:31:24

有点似焦点飘掉了~可以试着调整焦点或增加显影时间

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李普

2017-9-24 11:45:58

1.感觉有点defous
2.调exposure energy，develop time
建议做FEM，

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康正旭

2018-4-12 13:16:11

有可能是匀胶不均匀，曝光有偏差

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敖敬辉

2018-6-28 09:52:19

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花版本

2019-7-9 08:30:16

以上大神们给的都是不同角度的考虑，你可以逐一排查。

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魏兆坤

2019-12-12 11:01:11

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魏兆坤

2020-3-7 10:49:48

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张青青

2020-3-20 13:10:27

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pjjoin920

2022-1-21 15:31:52

1、调节光刻胶的实际厚度（递减）
2、增加曝光时长或显影时长

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