Illumination wavelength (Min) (nm) | 800 |
Illumination wavelength (Max) (nm) | 2000 |
Micromirror array size | 1280 x 800 |
Chipset family | DLP650LNIR, DLPC410, DLPR410, DLPA200, DLPLCR65NEVM, DLPLCRC410EVM |
Micromirror pitch (um) | 10.8 |
Component type | DMD |
Micromirror array orientation | Orthogonal |
Pattern rate, binary (Max) (Hz) | 12500 |
Array diagonal (in) | 0.65 |
Display resolution (Max) | 1280 x 800 (WXGA) |
Rating | Catalog |
Pattern rate, 8-bit (Max) (Hz) | 1563 |
Micromirror driver support | External |
Thermal dissipation (°C/W) | 0.5 |
- 具有超过 100 万个微镜的 1280 × 800 (WXGA) 阵列
- 10.8μm 微镜间距
- ±12° 微镜倾斜角(相对于平面)
- 用于角落照明的 0.65 英寸对角线阵列
- 0.5°C/W 耐热高效封装
- 高效控制近红外光(800nm 到 2000nm)
- DMD 上的高达 160W 的入射功率
- 窗透射率 >98%(950nm 至 1150nm,单通道,两个窗面)
- 窗透射率 >93%(850nm 至 2000nm,单通道,两个窗面)
- 偏振无关型铝制微镜
- 16 位 2xLVDS 400MHz 输入数据总线
- 专用 DLPC410 控制器、DLPR410 PROM 和 DLPA200 微镜驱动器可确保可靠的高速运行
- 二进制模式速率高达 12,500Hz
- 全局、单块、双块和四块反射镜时钟脉冲(复位)运行模式
DLP650LNIR 数字微镜器件可作为空间光线调制器 (SLM),在工业设备中控制近红外 (NIR) 光并生成用于实现高级成像的高速图形。该器件采用了高效散热型封装,允许客户将 DMD 与高功率 NIR 激光照明相结合,从而提供动态数字印刷、烧结和打标解决方案。DLP650LNIR、DLPC410、DLPR410 和 DLPA200 芯片组可提供高达 12,500Hz 的 1 位图形速率及像素精确控制,因此设计人员可以设计出比传统控制激光器所允许的更加创新和精确的光学系统。