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分布布拉格反射（DBR）半导体激光器结构原理简介

2010年04月02日 15:47 www.elecfans.com 作者：佚名 用户评论（0）

分布布拉格反射（DBR）半导体激光器结构原理简介

结构及工作机理

DBR激光器的腔体结构与F—P腔激光器不同，其基本原理是基于布拉格发射，如图2—80所示。布拉格发射是指在两种不同介质的交界面上，具有周期性的反射点，当光入射时，将产生周期性的反射，这种反射即称为布拉格发射。交界面本身可以取不同的形状：正弦波形或非正弦（如：方波、三角波等）。

在图2—80(a) 中，若：

image:bk0715430f_1.gif (2—107)

其中m为整数，image:bk0715430f_2.gif为介质中的光波长，为空气中的光波长， 为等效折射率。

根据图中所示关系，可得

image:bk0715430f_5.gif(2—108)

在上式满足时，图中1,2,3的反射光进行干涉，其相位差为image:bk0715430f_6.gif的整数倍。式（2—108）即称为布拉格条件，其物理意义是：对特定的A和θ，有一个image:bk0715430f_6.gif与之对应，具有image:bk0715430f_6.gif波长的光所产生的各个反射光将产生干涉。

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