我国芯片刻蚀机再获技术突破，技术全球领先

（文章来源：网络整理）

众所周知，我国芯片制造技术与国际先进水平有着不小的差距。芯片制造的关键设备--光刻机，与国际领先水平差距更大：世界最先进水平已经到了5nm水平，而我国才达到90nm水平。

可能是因为我国光刻机技术与国际领先水平差距巨大的原因，国人的的注意力都集中在光刻机上，而忽视了另一种在芯片制造过程中跟光刻机起到同等重要作用的设备——刻蚀机。

据国内技术最先进的刻蚀机生产商中微半导体设备有限公司（简称中微公司）最新披露，该公司的5nm高端刻蚀机设备已经获得行业领先客户——台积电的批量订单。

5nm制程代表了现阶段全球芯片加工技术的最高水平，台积电在其世界上最先进的5nm芯片生产线上采用我国中微公司的高端刻蚀机，足以说明我国在刻蚀机领域技术的全球领先性。

光刻机和刻蚀机同样是芯片制造的关键设备，刻蚀机在我国企业地努力下已经达到了世界领先水平。相信在不久的将来，通过我国政府的统一部署与协调，和全国科研工作者的努力攻关，我国光刻机技术一定能够实现突破，赶上甚至超过世界最高水平！
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