存储芯片大厂SK海力士宣布完成了业内首款多堆栈176层4D闪存的研发,TLC颗粒,容量达512Gb(64GB)。
据,SK海力士透露,该闪存单元架构为CTF(电荷捕获),同时集成了PUC技术,堆叠层数达到了176层,每片晶圆可以切割更多有效的闪存硅片。除了容量增加35%,闪存单元的读取速度也提升了20%,使用加速技术可使得传输速度加快33%到1.6Gbps。SK海力士将其称之为“4D闪存”。
SK海力士预计相关产品明年年中上市,目前主控厂商已经在测试样品,预计会在手机闪存领域首发,目标是70%的的读速提升和35%的写速提升,后续还会应用到消费级SSD和企业产品上。
另外,SK海力士已经表示,正在开发1Tb(128GB)容量的176层4D闪存。显然,今后手机可以在更紧凑的空间内做到大容量ROM空间了。
编辑:hfy
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
存储芯片
+关注
关注
11文章
897浏览量
43147 -
SK海力士
+关注
关注
0文章
962浏览量
38507
发布评论请先 登录
相关推荐
SK海力士调整生产策略,聚焦高端存储技术
限的产能转向更高端的产品线,如人工智能用存储器及先进DRAM产品。 SK海力士的这一决策可能与其重点发展高端存储技术研发和生产有关。近日,该公司对外展示了全球首款48
英伟达向SK海力士提出提前供应HBM4芯片要求
近日,韩国SK集团会长透露了一项重要信息,即英伟达公司的首席执行官黄仁勋已向SK海力士提出了一项特殊的要求。黄仁勋希望SK
英伟达加速推进HBM4需求,SK海力士等存储巨头竞争加剧
韩国大型财团SK集团的董事长崔泰源在周一的采访中透露,英伟达的首席执行官黄仁勋已向SK集团旗下的存储芯片制造巨头SK海力士提出要求,希望其能
SK海力士引领未来:全球首发12层HBM3E芯片,重塑AI存储技术格局
今日,半导体巨头SK海力士震撼宣布了一项业界瞩目的技术里程碑,该公司已成功在全球范围内率先实现12层HBM3E芯片的规模化生产,此举不仅将HBM存储器的最大容量推升至史无前例的36
SK海力士开始先进人工智能芯片生产
SK海力士宣布,公司已正式踏入人工智能芯片生产的新阶段,批量生产业界领先的12层HBM3E芯片。这款芯片不仅代表了SK海力士在内存技术上的重
SK海力士率先展示UFS 4.1通用闪存
在最近的FMS 2024峰会上,SK 海力士凭借其创新实力,率先向业界展示了尚未正式发布规范的UFS 4.1通用闪存新品,再次引领存储技术的前沿。此次展示不仅彰显了SK
SK海力士加速NAND研发,400+层闪存量产在即
韩国半导体巨头SK海力士正加速推进NAND闪存技术的革新,据韩媒最新报道,该公司计划于2025年末全面完成400+层堆叠NAND
SK海力士5层堆叠3D DRAM制造良率已达56.1%
在全球半导体技术的激烈竞争中,SK海力士再次展示了其卓越的研发实力与创新能力。近日,在美国夏威夷举行的VLSI 2024峰会上,SK海力士宣布了其在3
SK海力士HBM4芯片前景看好
瑞银集团最新报告指出,SK海力士的HBM4芯片预计从2026年起,每年将贡献6至15亿美元的营收。作为高带宽内存(HBM)市场的领军企业,SK海力士
SK海力士推出新一代移动端NAND闪存解决方案ZUFS 4.0
今日,SK海力士公司宣布了一项革命性的技术突破,他们成功研发出了面向端侧(On-Device)AI应用的全新移动端NAND闪存解决方案——“ZUFS(Zoned UFS)4.0”。这款产品的推出,标志着
消息称SK海力士测试东京电子低温蚀刻设备
SK 海力士正在与东京电子(TEL)展开紧密合作,通过发送测试晶圆来评估后者的低温蚀刻设备。这一举措旨在为未来的NAND闪存生产导入新技术。在当前,增加堆叠层数已经成为提高3D NAN
刚刚!SK海力士出局!
在基础晶圆上通过硅通孔(TSV)连接多层DRAM,首批HBM3E产品均采用8层堆叠,容量为24GB。SK海力士和三星分别在去年8月和10月向
评论