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半导体工艺制程中常用的工序

璟琰乀 来源:EETOP、百度百科、CSDN博客 作者:EETOP、百度百科、 2021-10-03 18:14 次阅读

半导体一般是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体的应用非常广泛,在集成威廉希尔官方网站 消费电子通信系统、光伏发电、照明应用等都有应用。那么半导体工艺制程中常用的工序有哪些呢?下面一起来看看吧。

半导体元件制作过程可以分为:

  • 晶圆处理制程
  • 晶圆针测制程
  • IC构装制程
  • 测试制程

晶圆处理制程

主要是在晶圆上制作威廉希尔官方网站 以及电子元件,有很多步骤,也是最烧钱的一段。步骤多的话有数百道,并且所使用的机器昂贵,并且对环境以及各方面都有要求。

基本步骤是先清洗,之后氧化,然后进行微影、蚀刻等步骤,以完成晶圆威廉希尔官方网站 的加工制作。

晶圆针测制程

在Wafer Fab制程后,开元上有一格格的小格,这些晶圆会进行针测,会使用专门的一起来进行测试,不合格的将会做上记号。

然后晶圆会将晶粒分割成独立的晶粒。

IC构装制程

包装晶粒用来制成其他威廉希尔官方网站 ,为了制造所生产出来威廉希尔官方网站 的保护层,避免受到机械性刮伤。

本文综合自EETOP、百度百科、CSDN博客

责任编辑:haq

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