新EUV光刻机售价超26亿，Intel成为首位买家，将于2025年首次交付
在芯片研发的过程中，光刻机是必不可少的部分，而随着芯片制程工艺的不断发展，普通的光刻机已经不能满足先进制程了，必须要用最先进的EUV光刻机才能完成7nm及其以下的先进制程，而目前台积电和三星都在攻克3nm制程，据了解，更加先进的制程就需要更先进的光刻机来完成了。
光刻机厂商ASML为此正在研发新一代High NA EUV光刻机，这种EUV光刻机的NA数值孔径比现在0.33口径的EUV光刻机还要高，达到了0.55口径，也就是说High NA EUV光刻机的分辨率更高，能够进行更加先进制程的加工。
目前芯片巨头Intel已经抢先成为了第一个订购到High NA EUV光刻机的厂商，该款High NA EUV光刻机型号定为了High-NA EXE:5200，单台售价已经超过了26亿人民币，预计将在2023年完成原型机的制造，并在2025年首次交付给Intel。
不只是Intel，台积电方面也表示将在2024年引入新一代High NA EUV光刻机，三星甚至让副会长李在镕亲自出马，赶往ASML与其高层会面洽谈新一代光刻机相关事宜。
审核编辑 黄昊宇
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
intel
+关注
关注
19文章
3482浏览量
185955 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1150浏览量
47388 -
ASML
+关注
关注
7文章
718浏览量
41233
发布评论请先 登录
相关推荐
日本首台EUV光刻机就位
本月底完成。 Rapidus 计划 2025 年春季使用最先进的 2 纳米工艺开发原型芯片，于 2027 年开始大规模生产芯片。 EUV 机器结合了特殊光源、镜头和其他技术，可形成
光刻机的工作原理和分类
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位，并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机：芯片制造的关键角色 光刻机在芯片制造中占据着至关重要的地位，被誉为芯片制
今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉；三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机
1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机，加快开发1nm 芯片 据报道，三星电子正准备在2025
发表于 10-31 10:56
•810次阅读
俄罗斯首台光刻机问世
的一部分，目前正在对其进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出，到2026年将获得130nm的国产光刻机，下一步将是开发90nm光刻机，并继续向下迈进。 此前，俄罗斯曾表示，计划到2026
Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意，未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头（包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus）中，只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
台积电A16制程采用EUV光刻机，2026年下半年量产
据台湾业内人士透露，台积电并未为A16制程配备高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下，英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
台积电张晓强：ASML High-NA EUV成本效益是关键
据今年2月份报道，荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价，高达3.5亿欧元（约合27.16亿元人民币）。而现有
英特尔突破技术壁垒：首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作，以确保其能够顺利融入未来的生产线。
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机
发表于 03-21 11:31
•6252次阅读
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
EUV 光刻机持续更新升级，未来目标在 2025 年推出 NXE:4000F 机型。 上两代 NXE 系列机型 3400C 和 3600D 分别适合 7~5、5~3 纳米节点生产，德
英特尔成为全球首家购买3.8亿美元高数值孔径光刻机的厂商
英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止，英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂，据报道它们的售价约为3.8
三星清空ASML股份，11年盈利超16倍
根据资料显示，在2012年，为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用，并获得EUV光刻机的优先供应，在2012
佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机
Takeishi向英国《金融时报》表示，公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C，并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月，该公司表示该设备的价格将比ASML的
狂加工一年！ASML把欠中国的600亿光刻机，成功交付了
关于光刻机，大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗？来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性不断提升，人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂，不仅仅涉及到底层的架构设计，还需要通过
英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35
工商网监
评论