duv和euv光刻机区别
目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。前者采用极紫外光刻技术，后者采用深紫外光刻技术。EUV已被确定为先进工艺芯片光刻机的发展方向。
DUV已经能满足绝大多数需求：覆盖7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。duv的光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米。然而，euv激光激发等离子来发射EUV光子，光源的波长则为13.5纳米。
从制程范围方面来谈duv基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，却无法达到10nm以下。euv能满足10nm以下的晶圆权制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
duv和euv光刻机区别还有光路系统不同。
duv：主要利用光的折射原理。其中，浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间，填入去离子水，使得193nm的光波等效至134nm。
euv：利用的光的反射原理，内部必须为真空操作。
文章综合php中文网、科创板日报、浩晨生活馆
编辑：黄飞
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
光刻机
+关注
关注
31文章
1150浏览量
47404 -
EUV
+关注
关注
8文章
607浏览量
86030 -
DUV
+关注
关注
1文章
55浏览量
3695
发布评论请先 登录
相关推荐
光刻机巨头ASML业绩暴雷，芯片迎来新一轮“寒流”？
电子发烧友网报道（文/黄山明）作为芯片制造过程中的核心设备，光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片（7nm及以下）芯片量产的关键，但目前EUV
日本首台EUV光刻机就位
据日经亚洲 12 月 19 日报道，Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司，已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行安装，设备安装预计在
用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍
本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造：光刻技术的演进 过去半个多世纪，摩尔定律一直推动着半导体技术的发展，但当光刻机的光源波长卡在193nm，芯片制程缩小至6
光刻机的工作原理和分类
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位，并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机：芯片制造的关键角色 光刻机在芯片制造中占据着至关重要的地位，被誉为芯片制
日本大学研发出新极紫外(EUV)光刻技术
近日，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）发布了一项重大研究报告，宣布该校成功研发出一种突破性的极紫外（EUV）光刻技术。这一创新技术超越了当前半导体制造业的标准界限，其设计的光刻设备能够采用更小巧的
俄罗斯首台光刻机问世
据外媒报道，目前，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。 俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已组装并制造了第一台国产光刻机，作为泽廖诺格勒技术生产线
Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意，未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头（包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus）中，只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
荷兰阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机
disable）台积电相应机器，而且还可以包括最先进的极紫外光刻机（EUV）。 这就意味着阿斯麦（ASML）留了后门，随时有能力去远程瘫痪制造芯片的光刻机。 要知道我国大陆市场已经连续三个季度成为阿斯麦（ASML）最大市场，而
台积电A16制程采用EUV光刻机，2026年下半年量产
据台湾业内人士透露，台积电并未为A16制程配备高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下，英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
ASML发货第二台High NA EUV光刻机，已成功印刷10nm线宽图案
ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机，并且已成功印刷出10纳米线宽图案，这一重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了一大步。
英特尔突破技术壁垒：首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作，以确保其能够顺利融入未来的生产线。
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机
发表于 03-21 11:31
•6304次阅读
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息，光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
工商网监
评论