CMP工艺影响下的版图优化

编者按

中国科学院大学集成威廉希尔官方网站 学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成威廉希尔官方网站 学院开设了《集成威廉希尔官方网站 先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中，除教师系统地讲授外，学生还就感兴趣的课题做深入调研。师生共同讨论调研报告，实现教学互动。调研的内容涉及光刻工艺、光刻成像理论、SMO、OPC和DTCO技术。

考虑到这些内容也是目前业界关注的实用技术，征得教师和学生的同意，本公众号将陆续展示一些学生的调研结果。这些报告还很初步，甚至有少许谬误之处，请业界专家批评指正。

以下为报告PPT：

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

   

审核编辑：汤梓红