ASML和IMEC宣布共同开发high-NA EUV光刻试验线
6月29日，比利时微电子研究中心（imec）和阿斯麦asml宣布，将在高端high-na极紫外线（euv）光马托格测试线的下一阶段加强合作。
据悉，签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶设置imec测试线及asml的所有尖端光标及测量设备的服务。最新款0.55 na euv （twinscan exe:5200）、最新款0.33 na euv （twinscan nxe:3800）、duv淬火（twinscan nxe： 2100i）、yieldstar光学测量、hmi多光束。
报道指出，这两家企业在光控图表和测量技术方面的合作，与欧盟及其成员国的前景和计划是一致的。因此，imec和asml的合作被纳入荷兰政府目前正在讨论的ipcei提案。
asml的总裁兼首席执行官peter wennink表示，asml为促进欧洲半导体研究和持续创新，在imec最尖端测试设备上做出了重要承诺。随着人工智能（ai）迅速扩展到自然语言处理、电脑视觉、自律系统等，业务的复杂性越来越大。因此，开发在不耗尽地球宝贵能源资源的情况下，满足这种计算需求的芯片技术是最重要的。
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