英特尔率先推出业界高数值孔径 EUV 光刻系统

来源：Yole Group

英特尔代工已接收并组装了业界首个高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统。 新设备能够大大提高下一代处理器的分辨率和功能扩展，使英特尔代工厂能够继续超越英特尔 18A 的工艺领先地位。

高数值孔径 EUV 是 ASML 与英特尔数十年合作后开发的下一代光刻系统。 作为高数值孔径 EUV 的先行者，英特尔代工厂将能够在芯片制造方面提供前所未有的精度和可扩展性。这反过来将促使英特尔能够开发具有最具创新特性和功能的芯片——这些处理器对于推动人工智能和其他新兴技术的进步至关重要。

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审核编辑 黄宇