全球知名的DRAM大厂美光,早在去年就已宣布了其在日本广岛的重大投资计划。据悉,美光计划斥资6,000至8,000亿日元,在广岛兴建一座全新的DRAM工厂。这一项目预计将在2026年初破土动工,最快有望在2027年底前完成厂房建设、机台设备安装,并正式投入营运。
新厂的选址颇具深意,将紧邻美光已建成的Fab15工厂。这一地理位置的选择不仅有利于资源的整合与共享,更能充分利用现有的基础设施和供应链网络,确保新厂建设的顺利进行。
据美光透露,新厂初期规划主要聚焦于DRAM晶圆的生产,暂不涉及后段的封装及测试环节。而产能方面,将重点投向HBM(高带宽内存)产品,以满足市场对高性能、大容量存储器的不断增长的需求。
尤为值得一提的是,美光广岛DRAM新厂将首次引入极紫外光(EUV)光刻设备。这一技术的引入,将使得新厂能够生产先进的1-Gamma制程DRAM,并在后续逐步导入1-Delta制程。随着制程技术的不断升级,EUV设备的安装数量也将大幅增加,并将采用更多高标准的无尘室来确保生产环境的纯净度。
美光此次在日本广岛兴建DRAM新厂,不仅是对其全球布局的一次重要补充,更是对先进制程技术的一次大胆尝试。随着新厂的建成投产,美光有望在DRAM市场上继续保持领先地位,为全球客户提供更优质的产品和服务。
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