拓荆科技：超高深宽比沟槽填充CVD产品首台已通过客户验证

来源：集成威廉希尔官方网站 材料研究

近日，拓荆科技在接受机构调研时表示，公司自主研发并推出的超高深宽比沟槽填充CVD产品首台已通过客户验证，实现了产业化应用，并获得客户重复订单及不同客户订单，陆续出货至客户端验证。

超高深宽比沟槽填充CVD设备可以在晶圆表面沉积高品质的介电薄膜材料，经过固化及氧化等处理工艺后，可达到完全填充间隙而不会留下孔洞和缝隙的效果。拓荆科技称，目前与超高深宽比沟槽填充CVD设备相关的反应腔累计出货超过15个。

另外，拓荆科技的PECVD Bianca设备为晶圆背面薄膜沉积设备，主要应用于集成威廉希尔官方网站 制造过程中对晶圆翘曲的纠正以及晶圆背面保护，可以应用于存储领域及逻辑领域。今年上半年，拓荆科技首台PECVD Bianca工艺设备通过客户验证，实现了产业化应用，截至上半年末，累计超过25个反应腔获得订单，部分反应腔已出货至客户端。

拓荆科技表示，研发是公司发展的基石，公司会持续进行高强度的研发投入，不断拓展新产品、新工艺，并根据客户需求进行产品迭代升级，进而促进公司的稳定发展，预计2024年研发投入占营业收入的比例将保持在20%以上。

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审核编辑 黄宇