新思宣布先进工艺良率学习平台设计取得最大突破 为三星后续先进工艺奠定基础

集成威廉希尔官方网站 设计自动化软件领导企业新思（Synopsys）近日宣布，面向三星7LPP（7nm Low Power Plus）和更先进工艺的良率学习平台设计取得最大突破，也为三星后续5nm、4nm、3nm工艺的量产和良品率奠定了坚实基础。

量产探索平台（Yield Explorer）是一种复杂的芯片量产良品率学习平台，可用来分析芯片设计、晶圆厂生产、产品测试三大方面的数据，以便帮助工程师找到缺点、改进良品率、提高产能。

现代芯片设计和生产是极为复杂的过程，往往涉及几千个步骤，需要花费数月时间，而芯片的最终良品率取决于整体设计、性能和功耗需求等，因此要想提高芯片生产的成功率，需要对各种因素进行细致的分析。

根据路线图，三星工艺近期有14nm、10nm、7nm、3nm三个重要节点，其中14nm会演化出11nm，10nm会演化出8nm，7nm则会演化出6nm、5nm、4nm。

而每种工艺往往又会根据性能、功耗的不同而分为多个版本，比如14nm分成了14LPE、14LPP、14LPC、14LPU，3nm则分成3GAE、3GAP，预计会采用全新的材料。

目前，三星已经完成5nm工艺的设计工作，正在加速推进投入量产，4nm则将在今年下半年完成开发，新思的新平台将在其中发挥巨大作用。