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前不久,明导国际宣布中芯国际已经将明导国际Calibre产品认证为其65nm和更小制程的可制造性设计(DFM)签核参考平台。参考流程涵盖了Calibre DFM所能提供的全部组件,包括:用于光刻检验的Calibre LFD产品;用于平面性(CMP)仿真的Calibre CMPAnalyzer产品;用于关键区域分析(CAA)和仿真的Calibre YieldAnalyzer产品;以及用于自动DFM布线改进的带有SmartFill的Calibre YieldEnhancer产品,其中包括了高度优化平面性填充。此外,中芯国际还将Calibre解决方案应用于DFM服务之中。
“我们正积极将DFM签核要求添加到65nm及以下的制程当中,使其成为各个级别的强制规定,包括全芯片、模块和IP,”中芯国际企业设计服务中心副总裁Max Liu说。“之所以选择Calibre,是因为我们发现它是完整、准确而可靠的DFM平台,这将保证中芯国际参考流程的有效性。例如,Calibre LFD是主要的光刻检验工具,它的精度足以达到我们对于65nm制程的要求。所以,我们在流程中使用的制程变动分析工具,包括电气分析,均采用Calibre LFD生成的轮廓图。同时,Calibre CMPAnalyzer使得中芯国际能够建立并修改我们的CMP模型,在DFM过程中给予我们更多的灵活性和控制力。另外,Calibre作为在业界广泛使用的完整流片后流程平台,使我们的客户能够轻易将经过Calibre验证的IP集成在他们的设计当中。”
“采用DFM已经成为晶圆代工和无晶圆设计公司同时面临的一项挑战,”明导国际副总裁,设计至芯片部总经理Joseph Sawicki说。“Calibre平台使得DFM成为我们的客户现有物理验证流程的无缝延伸,产品的采用变得更加容易,性能方面的优势得以显现,整个周期时间也得到了缩短。”
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