镀复SiO2膜的电容器介质膜

电子工程师 2009-12-08 809

电容器

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镀复SiO2膜的电容器介质膜

成功一种能在几百小时连续沉积SiO2膜的新颖电子束蒸发装置，获国家发明专利，在此基础上开发出镀复SiO2膜的电容器介质膜。用镀复SiO2（或AL2O3）膜的PP、PET膜制作电容器，其体积大幅度缩小，介质损耗极小，耐压提高，能在高温下稳定地工作。?

主要技术性能或技术指标：可镀薄膜：所有有机薄膜与树脂薄膜；薄膜厚度：4-20μ；SiO2膜厚度：500-1000A；损耗角正切：tano≤0.001(1kHZ);日产薄膜：0.5吨应用领域及市场前景： PET、PP等电容器介质薄膜及其金属化介质。?　
?　效益分析：①电容器的性能参数大幅度提高，从而使产品档次提高。②电容器体积缩小，有机薄膜用量减小三分之一以上。?　

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