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12吋晶圆集成威廉希尔官方网站 芯片制程工艺与工序前端FEOL第二部分免费下载

消耗积分:0 | 格式:docx | 大小:3.15 MB | 2019-04-05

张红专

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　　上接《浅谈12吋晶圆集成威廉希尔官方网站 芯片制程（工艺与工序）前端FEOL第一部分》

　　4 ）浅源漏（汲）极前端延伸区（LDD）。

　　4.1 栅极宽度不断缩小，沟道长度不断减小，增加了漏源间电荷穿通的几率。沟道中电场强度增大，电子（空穴）在强电场中获得高能量注入并陷落到栅氧化层介质中，引发出器件可靠性问题。采用LDD结构性能得到改进。见图14.及附注。 LDD结构也减少了短沟道效应。

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