双束电浆离子束Plasma FIB与双束聚焦离子束Dual Beam FIB的区别？

                                               
P FIB 与DB FIB师出同源，最大差异在离子源与蚀刻效率。

• DB FIB的离子源Ga+容易附着在样品表面，P FIB使用Xe可减少样品Ga污染问题。
• P FIB可大范围面积快速执行，蚀刻速率提升20倍。