涂层技术EV Group提供由摩托罗拉开发的面罩涂层技术
EV集团提供由摩托罗拉开发的掩模涂层技术
PHOENIX - EV集团公司在此宣布，它将提供由摩托罗拉实验室开发的用于提高接触式印刷设备产量的掩模涂层技术。该公司表示，该涂层称为超级清洁面膜，可防止光刻胶和任何污染物在接触印刷过程中粘附在面罩上，从而延长了面罩的曝光寿命。 EVG正在为每个掩模对准器提供技术许可。
PHOENIX - EV集团公司在此宣布，它将提供由摩托罗拉实验室开发的用于提高接触式印刷设备产量的掩模涂层技术。该公司表示，该涂层称为超级清洁面膜，可防止光刻胶和任何污染物在接触印刷过程中粘附在面罩上，从而延长了面罩的曝光寿命。 EVG正在为每个掩模对准器提供技术许可。
据德国公司EVG称，SCM掩模涂层大大延长了掩模清洁周期，但在使用过程中没有明显降低特征尺寸分辨率。被称为电子视觉。这对于接触印刷应用是至关重要的，例如微机电系统（MEMS），功率和微波晶体管，齐纳二极管和肖特基二极管，太阳能电池和其他大型缺陷敏感功率和光子器件。
与EVG的楔形补偿系统结合使用时，SCM涂层在掩模清洁周期之间产生了最大数量的质量曝光，该公司声称。它说，这可以改善掩模的使用寿命并大大降低掩模更换要求。
联系打印机是在20世纪60年代早期为半导体加工开发的。随着硅晶片变得越来越大 - 高达8英寸，现在为12英寸 - 使用大型石英掩模的接触式打印机被步进技术取代。 EVG表示，最新的MEMS，化合物半导体，激光和其他使用3-，4-，6-和最近8英寸晶圆的电信产品已经引发了接触式印刷的复苏。
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