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为什么干法刻蚀又叫低温等离子体刻蚀

中科院半导体所 来源:Tom聊芯片智造 2024-11-16 12:53 次阅读

本文介绍了为什么干法刻蚀又叫低温等离子体刻蚀。

什么是低温等离子体刻蚀,除了低温难道还有高温吗?等离子体的温度?

等离子体是物质的第四态,并不是只有半导体制造工业领域中才会有等离子体。等离子体广泛存在于自然界中,如闪电,太阳表面都会有大量的等离子体产生,因为等离子体的实质是气体的电离。自然界的等离子体的核心温度可以达到13500℃左右,即高温等离子体,因此对于工业生产并无太大作用。 而低温等离子体是一种人造的等离子体,通过等离子体提供能量,代替热量,促进化学反应的迅速发生,一般温度从室温到几百摄氏度之间。 人造等离子体如何产生?

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1,降低腔体压力。首先使用真空泵将腔体内的压力降低到一定的数值,低气压有助于控制等离子体的稳定性,使气体更容易被电离。

2,引入工艺气体。向腔体中引入特定的工艺气体。这些气体将成为等离子体中的主要粒子来源。

3,激发等离子体。采用电源将气体电离,从而形成等离子体。

4,关闭等离子体并恢复到大气压力。 低温等离子体在半导体制造中的用途? 在干法刻蚀,PVD,CVD,ALD,离子注入,灰化,终点检测等都有应用。

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原文标题:为什么干法刻蚀又叫低温等离子体刻蚀?

文章出处:【微信号:bdtdsj,微信公众号:中科院半导体所】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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