芯片测试与失效分析
直播中

令狐冲

11年用户 12经验值
擅长:可编程逻辑
私信 关注
[问答]

求助:IC芯片金属化在通孔位置出现空洞

大神,能解释以下为什么在通孔位置金属化会出现空洞或者较金属化缺吗?
  • 1.PNG
已退回2积分

回帖(4)

IC2355348525

2016-12-12 17:10:31
有需要用到电子元器件的,都可以加我聊下,我们做了十几年了,或者你在苦苦寻找的料我们刚好就有,虽然说几率可能很小,但起码还有!给我们一次机会,也给自己一次机会!2355348525
举报

xushun116

2017-3-30 12:09:28
可能是50um的通孔太小金属化没法流入,也有可能是有堵塞物体。
建议改用激光镭雕,做立体威廉希尔官方网站 工艺:最小处理可以达到20um的线宽,具体工艺交流加我QQ***,许先生。
举报

小绿叶蝉

2017-3-30 18:41:05
好像EOS哦
举报

xisheng1989

2017-6-4 16:52:32
你这个问题描述不清楚啊,所有出现的空洞都在通孔附近还是在只有这一个,如果都集中在通孔附近,那可能是通孔金属化未能很好被覆盖,导致里面出现缺陷而形成空洞,或者通孔加工之前存在其他异物造成。
如果只是少量,可能是金属化工艺存在缺陷,具体要看线宽,颗粒缺陷等要求。
信息太少,太难分析
举报

更多回帖

发帖
×
20
完善资料,
赚取积分